マイクロ・ナノ精密レーザー加工装置

Micro-nano Precision Laser Processing Euipment
 

主なアプリケーションには、レーザー エッチング、微細{0}}精密切断、微細-穴あけなどがあります。特殊な機能により、生体模倣微細構造、薄膜材料除去、マイクロチャネル製造、サブ-線幅処理などのお客様のニーズに対応します。当社は、太陽光発電、3C エレクトロニクス、科学研究、航空宇宙、防衛などの業界向けのソリューションを提供しています。

プロダクトセンター

 

微細-のレーザー切断、エッチング、マーキング

Micro-precision Laser Etching System

微細-精密レーザー エッチング システム

精密レーザー エッチング システムには、導電性ガラス エッチャー、薄膜エッチャー、ラージ フォーマット エッチング システム、ペロブスカイト バッテリー エッチャー、FTO/ITO エッチャーなどがあります。これらのシステムは、太陽光発電(ペロブスカイト バッテリー)、新エネルギー、タッチスクリーン、エレクトロクロミック ガラス、発光ガラスなどの業界におけるレーザー エッチングおよびスクライビング アプリケーション向けに設計されています。

Micro-precision Laser Cutting and Drilling

微細-精度のレーザー切断と穴あけ

製品には、UV レーザー カッター、PCB レーザー切断機およびパネル分離機、FPC レーザー カッター、超高速ピコ秒レーザー切断システム、ガラス レーザー カッター、セラミック レーザー カッター、およびカバー フィルム レーザー カッターが含まれます。 PCB、FPC、銅箔、アルミ箔、ステンレス箔などの金属箔の切断に適しています。

Precision Laser Marking and Traceability System

精密なレーザーマーキングとトレーサビリティ

当社の精密レーザー マーキング システムには、UV レーザー マーカー、グリーン レーザー マーカー、CO₂ レーザー マーカー、ファイバー レーザー マーカー、3D レーザー マーカー、ポータブル ファイバー レーザー マーカーが含まれます。これらのシステムは、さまざまな素材にテキスト、ロゴ、数字、パターン、Q​​R コード、バーコードをマーキングするために広く使用されています。基板QRコード等の自動ロード・アンロードシステム

 
 
成功事例
Laser Drilling and Etching of Copper Foil

銅箔のレーザー穴あけおよびエッチング

さまざまな厚さの銅箔の穴あけ加工が可能で、穴径は50マイクロメートル以内で制御可能です。スルーホールと止まり穴の製造プロセスをサポートします。-銅箔レーザー切断、溝入れ、エッチング用途など、多層材料表面上の銅箔の微細加工-が可能になります。-

Perovskite Battery Laser Etching

ペロブスカイト電池のレーザーエッチング

タッチスクリーン、太陽光発電太陽電池、エレクトロクロミックガラスなどの産業に応用されています。導電性銀ペースト、ITO、FTO、酸化亜鉛、ジルコニア、酸化チタン、酸化ニッケル、炭素粉末、金、銀、銅、アルミニウム、グラフェン、カーボンナノチューブ、酸化物、Spiro-OMeTAD、ペロブスカイト、SnO₂、C60、PCBMなどのペロブスカイト電池材料などの導電性材料の処理に適しています。

Precision cutting and shaping of PCB boards

PCB レーザー切断およびパネル分離

V{0}} またはスタンプ穴、窓開け、開口部を使用した PCB 基板の精密な切断と成形。パッケージ化された PCB と標準 PCB のパネル分離が含まれます。フレックス-リジッド ボード、FR4、PCB、FPC、指紋センサー モジュール、カバー フィルム、複合材料、銅-ベースのボードなどの材料に適しています。

Femtosecond Laser Etching and Processing

フェムト秒レーザーエッチングと加工

ITO、FTO、酸化亜鉛、ジルコニア、酸化チタン、酸化ニッケル(NiOx)、金、銀、カーボン粉末などの導電性金属や酸化物材料のエッチングに適しています。ガラス、シリコン ウェーハ、ジルコニア セラミックなどの材料の超微細線幅のエッチング、スクライビング、​​溝入れにも適用できます。-

知っておくべきことすべて
 

高品質のソリューションを提供することに注力しており、{0}当社は革新的なプロセス アプリケーション ソリューションのカスタム開発を専門としています。-

ITO のレーザーエッチング後の残留物はどのように処理すればよいですか?

ITO、FTO、酸化ニッケルなどの透明導電性酸化物のレーザーエッチング後の残留物は、2 つの主な原因に起因すると考えられます。

1. 技術的パラメータ:レーザー波長、動作モード、またはプロセス設定が正しくないと、残留物が発生する可能性があります。

解決:技術パラメータを調整します。ハードウェアの制限が原因の場合は、エッチングの線幅を広げ、残留物の挙動を観察します。ハードウェアの改善により問題が解決される可能性があります。

2.-汚染の後処理:エッチングの線幅が狭いと煙の残留物が捕捉され、二次汚染を引き起こす可能性があります。

解決:送風機と集塵システムを設置します。

PCB の UV レーザー切断中の粉塵はどのように処理されますか?

PCB の UV レーザー切断では粉塵は発生しませんが、煙は発生します。煙は、レーザー検流計と統合された同軸集塵システムと、底部のハニカム吸着プラットフォームを組み合わせて使用​​して管理されます。このプラットフォームは基板の平坦性を保証し、煙の問題への対処に役立ちます。
アルミニウムまたは銅{0}ベースの基板を切断する場合、窒素、酸素、空気、アルゴンなどの同軸補助ガスが使用されます。これらのガスは、用途に応じて溶融スラグを吹き飛ばし、保護、燃焼の促進、または酸化の防止という 2 つの目的を果たします。

レーザー エッチングでは FTO 導電性ガラスや薄膜を切断できないのはなぜですか?

FTO または ITO の不完全なレーザー エッチングに対処するには、通常 3 つの調整が必要です。

1. 材料の平坦度を確認します。フィルムまたはガラスに凹凸がある場合は、プラットフォームと検流計の精度を再調整します。

2. レーザー設定:レーザーの周波数とパルス幅を調整します (周波数を増やし、パルス幅を減らします)。

3. スキャン速度:検流計のスキャン速度を下げて、レーザー周波数とパルス幅の設定に合わせます。

追加のソリューション:

  • マルチスキャン テストを実行して、不均一性や検流計の問題を示す可能性のあるスポットの不一致を確認します。{0}
  • レーザーパルス遅延設定を調整します。
  • マシンが古い場合は、潜在的な電力低下を考慮して、より高い電力でテストしてください。

フェムト秒レーザー装置はどのような材料を加工できますか?

フェムト秒レーザー システムは多用途であり、切断、エッチング、穴あけ、マーキング、表面生体模倣処理、溝入れ、スクライビング、​​微細構造加工などの用途に広く使用されています。{0}これらは、極薄金属、-無機非金属材料、複合材料、ポリマーなどの幅広い材料に適しています。-具体的な用途には、ガラスのスクライビング、​​金属箔の切断、極薄銅箔の穴あけ、ポリマー材料の表面処理などがあります。{5}