355NM UVレーザー彫刻マシンには、短い波長、短いパルス、優れたビーム品質、高精度、高ピークパワーの利点があります。したがって、このシステムは、特別な材料処理の分野で非常に優れたアプリケーション特性を持ち、さまざまな材料表面に大きな利点があります。これは、ガラス材料の表面に情報記号を描画したり、テキスト情報記号に適しています。通常、ロゴ、パターン、コード、2次元コードなどを刻むために使用されます。

主な利点:
超微細なマーキング:正確な彫刻のための短い355nm波長。
コールド処理:材料を保護し、収量を高めるための最小限の熱効果。
汎用性のある材料:赤外線レーザー制限を超えてさまざまな材料を処理します。
高速マーキング:高速で効率的で正確な彫刻のためのデジタルガルボ。
低営業費用:消耗品は不要、安定した性能、長期使用。
典型的なアプリケーション:
ガラス、ポリマー材料などの表面彫刻やマイクロホール処理に適しています。
食品、薬、化粧品、電線などの高ポリマー材料のパッケージングボトル(箱)の表面を彫刻するために広く使用されており、マイクロポア(10μm以下の細孔直径D)をマークするために使用されます。
柔軟なPCB、LCD、TFT彫刻、ダイシング、および切断など。
金属または非金属コーティングの除去
シリコンウェーハのマイクロホールとブラインドホール処理。

オペレーティング·システム:
使いやすい操作:安定して使いやすい。
ソフトウェアの互換性:Autocad、Coreldraw、Photoshopで動作します。
自動レイアウト:テキスト、グラフィック、コードを自動的に配置します。
マルチフォーマットサポート:PLT、PCX、DXF、BMP、JPGをサポートし、TTFフォントを使用します。
CCD認識:自動認識と位置付け。
画像追跡:自動画像認識と追跡。
技術的なパラメーター:
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モデル |
RS-UV3W |
rs-uv5w |
RS-UV8W |
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最大出力電力(w@20khz) |
3W |
5W |
8W |
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ビーム品質 |
tem 00(m2<1.2) |
tem 00(m2<1.3) |
tem 00(m2<1.5) |
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ピークパワー(KW@20kHz) |
13.3 |
17.5 |
25.0 |
|
パルスエネルギー(MJ) |
0.20 |
0.35 |
0.50 |
|
パルス幅(NS@20kHz) |
15 |
20 |
20 |
|
ビーム径(mm) |
1.0 |
1.0 |
1.0 |
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ビーム発散(MRAD) |
<2.5 |
<2.5 |
<2.5 |
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偏光率 |
100:1水平 |
100:1水平 |
100:1水平 |
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電力安定性 |
12時間以上±2% |
12時間以上±2% |
12時間以上±2% |
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パルス繰り返し率(KHZ) |
5-200またはcw |
5-200またはcw |
5-200またはcw |
|
冷却 |
水冷 |
水冷 |
水冷 |
|
動作温度(度) |
15-30 |
15-30 |
15-30 |
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消費電力(W) |
1000 |
1200 |
15000 |
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マーキングサイズ(mm) |
100x100など |
100x100など |
100x100など |


