D発展経路
以来、 1995はレーザーマーキングの分野で、大判、鏡面回転、検流計の時代を経てきました。制御方法は、ソフトウェアの直接制御から上位および下位のコンピューター制御、リアルタイム処理および時分割多重化までのシリーズも完了しましたe革命。今日、半導体レーザー、ファイバーレーザー、さらにはUVレーザーの出現と開発により、光学プロセス制御に新たな課題が生じています。検流計レーザーマーキングヘッド（検流計スキャンシステム）は最新の製品です。 1998では、中国で検流計スキャンシステムの大規模なアプリケーションが始まりました。いわゆる検流計は、電流計とも呼ばれます。その設計思想は、電流計の設計方法に完全に従っています。レンズがメーターの針に取って代わり、プローブの信号は、-5V-5Vまたは-10V-10Vのコンピューター制御のDC信号に置き換えられます。スケジュールされたアクションを完了するため。回転ミラー走査システムと同じように、この典型的な制御システムは1組の折りたたみミラーを使用します。違いは、レンズを駆動するステッピングモーターがサーボモーターに置き換えられていることです。この制御システムでは、位置センサーの使用負のフィードバックループの設計思想により、システムの精度がさらに保証され、システム全体のスキャン速度と繰り返し位置決め精度が新しいレベルに達します。
レーザーマーキングヘッドの原理
検流計走査マーキングヘッドは、主にXY走査ミラー、フィールドレンズ、検流計、コンピューター制御のマーキングソフトウェアで構成されています。対応する光学部品は、さまざまなレーザー波長に応じて選択されます。関連オプションには、レーザービームエキスパンダー、レーザーなどがあります。動作原理は、レーザービームが2つのミラー（走査ミラー）に入射し、ミラーの反射角度がコンピューターによって制御されることです。これら2つのミラーは、X軸とY軸に沿ってそれぞれスキャンして、レーザービームの偏向を達成できます。特定のパワー密度のレーザーフォーカシングポイントは、必要な要件に従ってマーキング材料上を移動します。材料の表面に永久的なマーク。集束スポットは円形または長方形です。原理は右図のとおりです。ガルボスキャンシステムでは、ベクターグラフィックスとテキストを使用できます。
この方法は、描画効率が高く、グラフィック精度が高く、歪みがなく、レーザーマーキングの品質と速度が大幅に向上するという、コンピューターのグラフィックソフトウェア処理方法を使用します。同時に、検流計タイプのマーキングは、ドットマトリックスマーキング方式も使用できます。この方法は、オンラインマーキングに非常に適しています。異なる速度の生産ラインに応じて、1つの走査検流計または2つの走査検流計を使用できます。アレイマーキングと比較して、
より多くのドットマトリックス情報をマークできます。これは、中国語の文字をマークするのに大きな利点があります。広い適用範囲により、検流計スキャンマーキングはベクトルマーキングとドットマトリックスマーキングを実行でき、マーキング範囲は調整可能で、応答速度が速く、マーキング速度が高速です（毎秒数百の文字をマーキングできます）。品質、優れた光路封止性能、および強力な環境適応性が主流の製品になり、将来のレーザーマーキングの開発方向を表すと見なされ、幅広いアプリケーションの展望があります。
広い適用範囲により、検流計スキャンマーキングはベクトルマーキングとドットマトリックスマーキングを実行でき、マーキング範囲は調整可能で、応答速度が速く、マーキング速度が高速です（毎秒数百の文字をマーキングできます）。品質、優れた光路封止性能、および強力な環境適応性が主流の製品になり、将来のレーザーマーキングの開発方向を表すと見なされ、幅広いアプリケーションの展望があります。